日本表面真空学会学術講演会要旨集
Online ISSN : 2434-8589
2019年日本表面真空学会学術講演会
セッションID: 2Aa02
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10月29日(火)
半導体業界における表面・真空技術の役割と進化
*辻村 学
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抄録

半導体は現在開発の方向が大きく3方向に分かれている。(1)More Moore(2)More than Mooreと(3)Beyond CMOSだ。そして2030年には半導体微細化はいよいよオングストローム世代を迎え、「表面と真空技術」を応用した新しい革命技術が期待されている。半導体の過去・現在・未来を俯瞰し、表面技術や真空技術に今後どのような進化が望まれているかを大きく俯瞰する。

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© 2019 公益社団法人 日本表面真空学会
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