ポリカーボネート基板上に成膜したシラス薄膜の密着性改善

抄録

本研究では、ポリカーボネート基板にシラス薄膜を成膜した防曇材料の開発を提案する。その際、薄膜の密着性向上を目的とし、PC基板を逆スパッタリング法によって表面改質をした。処理後の表面状態は、フーリエ変換赤外分光光度計、走査プローブ顕微鏡を用いて評価した。その結果、高活性な官能基の導入および粗面化が確認された。また、作製したシラス薄膜をスチーム試験によって評価し、十分な密着性があることが分かった。