高分子論文集
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ポリスチレン粒子膜を用いた二次元ハニカム薄膜の作製
伊村 芳郎鈴木 真帆森田 くらら近藤 剛史河合 武司
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2007 年 64 巻 3 号 p. 166-170

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抄録

ハニカム構造を有するポリビニルアルコール(PVA)薄膜をポリスチレン(PS)粒子の 2 次元膜に PVA 水溶液をスピンコートする方法と PS 粒子膜を PVA 水溶液上に浮かせる方法とで作製した.得られたハニカム構造体の孔の深さは,前者では PS 粒子径の約 1/4,後者では粒子径の約 4/5 であった.さらに,PVA のハニカム薄膜を鋳型として充填剤のポリビニルフォルマール(PVF)およびシリコーンゴムの薄膜を作製した.

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© 2007 公益社団法人 高分子学会
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