抄録
高分子レジストを用いた極微細加工と, その形状および構造評価のための, 走査型電子顕微鏡 (SEM) と原子間力顕微鏡 (AFM) について述べる. 高分子を用いた最も微細な加工例の一つである, レジストによる半導体集積素子用のパターン形成では, 加工寸法が高分子サイズを無視できないレベルに近づきつつある. このような微細な構造を「見て評価する」こと自体が大きな課題となる. ここでは, パターン評価のために最も多く用いられている, SEMとAFMの適用例の一端を紹介する. そして, 今後の課題について述べる.
