抄録
周期的外乱を受けるはく離せん断層に発達する渦構造と乱流統計量の関係について, 実験的な検討を行った.テストケースは, ステップ端から周期的な吹き出しと吸い込みを受ける乱流バックステップ流れで, 速度場の計測には二次元粒子画像流速計 (PIV) を用いた.計測結果には外乱周期に同期した位相平均の処理を施し, 外乱と, せん断層内の渦構造の関連を評価した.その結果, 周期的外乱によりせん断層内の流線が揺動し, それに伴い大規模な渦構造がステップ後流へ放出され, せん断層内を流下することを明らかにした.また, この渦運動がせん断層内の乱流運動を活性化させること, 及びこの効果によるレイノルズ応力の増加がせん断層内の運動量輸送を活性化させ, 再付着の促進に寄与している事を示した.
