抄録
半導体の製造に使われるランプ熱処理では、昇温速度の誤差が熱処理誤差に大き
く影響するため、昇温速度を与えられた条件になるように発熱制御することが重
要である。本研究では、PID制御、伝熱モデルを用いた制御、昇温特性データを
用いた学習制御とそれらの複合方法について、昇温速度制御方法を実験的に検討
した。また外乱条件を強制的に与え、それらに対する耐性についても検討も行っ
た。その結果、昇温速度が50℃/sの条件下において、昇温特性データとPID制御の複合方法では誤差を0.1％以下に低減することが実現できた。
