日本化學雜誌
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シクロヘキサンの放射線分解に対する各種添加物の影響
菊地 清明佐藤 伸志田 正二
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1963 年 84 巻 7 号 p. 561-563,A38

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抄録

シクロヘキサンのγ線分解によって生ずる水素を定量し,ヨウ素,オレフィンおよび芳香族化合物の少数添加の影響を検べた。その結果,水素の生成を抑制する効果はつぎの順であることを見いだした。ヨウ素>アントラセン>ナフタレン~ビフェニル>シクロヘキセン>ベンゼン,また低級不飽和炭化水素については,イソブテン>アセチレン>プロピレン>エチレンである。これらの順位は遊離基捕捉効果の順位と一致する。また低級不飽和炭化水素では,添加化合物の水素化物が予想される量だけ生成していることを見いだした。

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