日本化學雜誌
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ビフェニレンメチレンの反応にともなうケイ光スペクトル
守谷 一郎永井 利一
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1965 年 86 巻 2 号 p. 157-162

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抄録

9-ジアゾフルオレンの光照射の際,エタノール系では520mμに,シケロヘキーサン系では470mμにそれぞれλmaxを有する幅広いケイ光スペクトルを与える。これは,フルオノンのπ*→n発光に対応するが,フルオレノン単独の場合と異なり,強度は大きく,しかも経時変化をもつ。ベンゼン系ではこのような顕著な発光スペトルを与えない。一方, 9-置換フルオレンが同様のスペクトルを与えること,光照射試料のESRスペクトルでビフェニレンメチルラジカルの信号が得られること,および光分解生成物の単離ならびに生成物の発光スペクトル的挙動,増感作用,分子軌道の計算,過酸化物の影響などの検討から,シクロヘキサン系では,ビフェニレンメチレン(三重項カルベン)の水素引き抜きにより,またエタノール系では, 9-エトキシフルオレンがまず生成し,これがさらに光分解を起して生じるビフェニレンメチルラジカリルが,このケイ光に関係している二とがわか.った。すなわち,ビフェニレンメチルペルオキシラジカルがフルオレノンのπ*→n発光に増感的な働きをしていると解釈された。

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