日本化學雜誌
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微粉末シリカ表面に見られるシラノール基の表面濃度の異常性
宮田 謙一
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1965 年 86 巻 3 号 p. 294-296

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抄録

前報においてある種の湿式法微粉末シリカ表面に存在するシラノール基の表面濃度が27μmol/m2であることを報告したが,この値は理論的に算出された値13μmol/m2よりいちじるしく高いものである。このように高い表面濃度でシラノール基がシリカ表面に存在する理由を明らかにするために,シラノール基の表面濃度が異常な値を示す微粉末シリカ,正常な値を示す微粉末シリカ,および後者を加圧圧縮して得られた圧縮微粉末シリカについて,水蒸気吸着等温線を測定し,それらシリカの絶体吸着等温線を比較検討した。その結果,この湿式法微粉末シリカは, 250m2/gの比表面積を持つ粒子の凝集体であり,凝集粒子問に窒素分子は吸着されないが,水分子は表面シラノール基との水素結合を介して吸着されるとの結論を得た。

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