ジメチルホルムアミド中におけるアントラキノン系化合物の電解還元機構のESRによる研究

抄録

非水溶媒ジメチルホルムアミド(以下DMFと略肥する)中におけるアントラキノン系化合物のボーラログラフ的還元では2段の一電子還元波を示し,⁶⁰Co-γ線や紫外線照射によっても2段階で還元されることから,還元反応機構の中悶体であるアニオンラジカルの確認を目的として,ラジカルの微細構造におよぼす醗換墓の種類や位置および水分の影響などをESRを用いて検討した。
また分子軌道法を用いてアントラキノン(以下AQ,と略配する)系化合物の電子密度やアニオンラジカルのスピン密度を計算し,還元ざれる位置や還元されやすさを検討し,ポーラログラムの半波電位E_1/2と最低空軌道のエネルギー準位とを関係づけることを試みた。