大気開放型ＣＶＤ過程における酸化物膜堆積速度の決定要因

抄録

我々は、大気開放型化学気相析出(CVD)法により結晶性の高い酸化イットリウム(Y₂O₃)の作製を行なってきた。酸化イットリウムは、耐プラズマ性に優れ半導体装置部品や蛍光体膜などで応用が期待されている。現在の堆積速度0.5 μm/hを大きく増加させることにより大きく実用化が進むと考えられる。本研究では、膜成長促進のためにキャリアガスに少量の酸素を導入すること、また、ノズル部に囲いを設けることを提案し、大気開放型CVD装置を用いて酸化イットリウムの堆積速度を上げる試みを行った。