シリケート材調製へ向けたSi-NMR法によるSol-Gel反応の速度論的検討

抄録

　シリケートコーティング膜作製技術の一つであるSol-Gel反応として知られるメチルトリエトキシシランの加水分解・縮合反応を²⁹Si-NMR法により追跡した。初期反応の加水分解においては、まず３つのエトキシ基が全てOH基により置換され、その後、比較的遅い速度で２量体、３量体が生成した。Sol-Gel法を用いてハードコート膜を作製する際には、コロイドシリカなどの添加物を加えることがある。そこで、これらの添加物やpHが反応速度や機構に及ぼす効果を調べ、Sol-Gel反応の制御の方法を検討した。