抄録
我々は、マイクロマシン用のマイクロアクチュエーターやマイクロモーターの動力源として、薄膜磁石の合成を目的とした研究を行っており、Moなどの金属基板上への高特性薄膜磁石の合成はすでに成功している。マイクロマシンに実際に応用するには半導体基板上への薄膜磁石合成が不可欠と考え、単結晶シリコン基板を用いた薄膜磁石の合成およびその磁気特性について実験を行った。緩衝層をはさんで蒸着をおこなった結果、熱処理後の薄膜はある程度の配向結晶化が起こり、磁気特性は未だ等方的なヒステレシス曲線を示すものの、10kOe以上の保磁力を示すハード特性を示す膜合成が可能となった。