化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第70年会
セッションID: H109
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

分離プロセス
対抗拡散CVD法による水素選択透過シリカ膜のキャラクタリゼーション
*野村 幹弘, 会田 均, Suraj Gopalakrishnan, 菅原 孝, 中尾 真一
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
PDFをダウンロード (108K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 2005 社団法人　化学工学会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top