化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第72年会
セッションID: B206
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主催: 社団法人　化学工学会

材料・界面
フォトブリーチング法を用いた高分子光導波路デバイスの開発
*渡邊 耕太朗, 何 磊, 陳 抱雪, 磯 守
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キーワード: optical waveguide, photobleaching, polysilane
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© 2007 社団法人　化学工学会
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