試験構造基板を利用したC<sub>5</sub>F<sub>8</sub>/O<sub>2</sub>/Arプラズマ反応のメカニズム解析

化学工学会　研究発表講演要旨集

化学工学会第39回秋季大会

セッションID: L209

DOI https://doi.org/10.11491/scej.2007f.0.1135.0

会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

シンポジウム＜CVD・ドライプロセス＞ (L201-L209, L213-L219, L301-L309, L313-L321)

試験構造基板を利用したC₅F₈/O₂/Arプラズマ反応のメカニズム解析

*関淳志, 霜垣幸浩

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キーワード: plasma CVD, Dry Etching, Reaction Kinetics

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© 2007 社団法人　化学工学会

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