化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第39回秋季大会
セッションID: L301
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

シンポジウム ＜CVD・ドライプロセス＞ (L201-L209, L213-L219, L301-L309, L313-L321)
シリコン表面における有機物分子吸着脱離挙動のその場観察
*羽深 等, 山屋 大輔
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キーワード: Silicon, Organic compound, adsorption
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© 2007 社団法人　化学工学会
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