化学工学会第39回秋季大会
セッションID: C117
会議情報
主催:
社団法人 化学工学会
シンポジウム ＜膜利用技術の新展開＞ (C104-C109, C113-C124)
対向拡散CVD法による水素透過シリカ膜の高透過率化と耐熱性
会議録・要旨集
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発行日: 2007 年
受付日: -
J-STAGE公開日: 2008/03/17
受理日: -
早期公開日: -
改訂日: -
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