化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第42回秋季大会
セッションID: F209
会議情報

主催: 化学工学会

コバルト酸化物ナノワイヤ構造体における不揮発性抵抗変化メモリ効果
*長島 一樹, 柳田 剛, 岡 敬祐, 谷口 正輝, 川合 知二, Jinsoo Kim, Bae Ho Park
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キーワード: Oxide nanowire, VLS, Nonvolatile Resistive Switching
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© 2010 社団法人　化学工学会
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