化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第42回秋季大会
セッションID: H320
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主催: 化学工学会

テトラエトキシシランの気相加水分解による高純度微粉シリカの合成
*Daboussi O, 小島 紀徳
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キーワード: polycrystalline silicon, tetraethoxysilane, silica
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