化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第42回秋季大会
セッションID: N218
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主催: 化学工学会

ULSI配線のキャップ層用新規原料とプラズマCVDによるSiCH膜
*清水 秀治, 加田 武史, 田島 暢夫, 霜垣 幸浩
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キーワード: Plasma Enhanced CVD, low-k cap layer, SiCH
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