水素化脱硫触媒の活性点形成機構

抄録

Co-Mo系硫化物の活性であるCo-Mo-Sの調製法による形成機構の違いをCVD法と含浸法について調べた。CVD法ではチオフェンHDS活性はCo担持量の増加にともなって2段階の傾きで増加したのに対し，含浸法では直線的に増加した。これはMoS2粒子の2種類のエッジサイトがCVD法では順番にCoで修飾されるのに対し，含浸法ではランダムなCoの修飾が起こるためだと考えられる。