MEMS Technology in Electrical Metrology
2002 年 41 巻 1 号 p. 102-107
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2002 年 41 巻 1 号 p. 102-107
マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム (MEMS) 技術 (MEMS技術) の進展により, シリコン・センサは単なるセンサから, 読み取り回路および自己テストと自動ゼロ機能をもったマイクロシステム (マイクロ計測器) に進化してきた. さらにMEMS技術により, 広い範囲の応用が期待できるマイクロおよびナノ構造の出現への道が開かれた. この論文ではMEMS技術の計測器・計測技術分野へのインパクトを議論する. 電気計測においては, シリコンの物性はフォトリソグラフで規定される構造サイズと合わせて特に重要である. なぜならこのシリコン物性により高度に安定なリファレンス要素回路の再現性のあるファブリケーションが可能になるからである. これに加えて, シリコン・マイクロシステムをチップ上に集積化するコンセプトにより, すべての計測システムを集積化するということの可能性がきわめて大きくなる. この論文で議論するデバイスは静電RMS-DC変換器およびマイクロ・ビームの引き込みに基づいたDC参照電圧発生器である.
