酸化ニッケル薄膜表面の化学状態と表面電位の関係

抄録

酸化ニッケル薄膜表面の化学状態と表面電位を高分解能Ｘ線光電子分光法及びケルビンプローブ顕微鏡によりそれぞれ調べた。酸化ニッケル薄膜表面の酸化状態は、Ni、NiO、及びNi2O3が混在したものであった。酸化ニッケル薄膜の表面電位は、その酸化状態に依存して変化した。表面電位は表面電子状態であり、表面反応性の指標となりうる。ニッケル表面酸化状態制御による表面反応性制御の可能性が示唆された。