AFM, XPS, NEXAFSを用いた金属表面粗さに依存した(CH₃)₂S吸着反応の研究

抄録

Ar⁺スパッタ後、分子を吸着させる前の金属基板加熱温度を制御し、表面粗さを変化させた。任意の加熱温度での表面粗さを原子間力顕微鏡 (AFM)で測定し、90 Kにおける(CH₃)₂Sの吸着反応及び構造をX線光電子分光(XPS)及び吸収端近傍X線吸収微細構造(NEXAFS)を用いて調べたところ、吸着種及び構造に基板表面粗さに依存した変化が得られた。