ゾル・ゲル法を用いたワイドバンドギャップCuAlO薄膜の作製

抄録

ゾル・ゲル法を用いてSi(001)および石英基板上にCuAlO薄膜を成長した. ゾル溶液は，酢酸銅一水和物，硝酸アルミニウム九水和物，硝酸，および2-プロパノールを用いて50℃で作製した．スピンコート法で基板上に塗布した後，窒素雰囲気中で1時間加熱処理することで結晶化させた．300℃以下の低温プロセスで光学バンドギャップが5.3eVで，可視光領域の透過率が80%以上のCuAlO薄膜が形成できた．