多元系化合物・太陽電池研究会 年末講演会論文集
Online ISSN : 2758-2302
2020
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ファインチャネルミストCVD法によるMoコート基板上への Cu2SnS3薄膜の堆積
友野 巧也吉久 史貴岡村 和哉田中 久仁彦
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p. 35-39

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抄録

To prevent exfoliation of Cu-Sn precursor, which deposited by fine channel mist CVD, from Mo coated substrate, annealed Mo coated substrate in N2 atmosphere was used. The prevent of exfoliation was considered to be due to MoO2 thin film grown on Mo by annealing in N2 atmosphere which decreases difference of coefficient of thermal expansion between Cu-Sn precursor and the substrate. After sulfurization, the Cu-Sn precursors showed X-ray diffraction peaks attributed to (133), (333) and (200) peaks of monoclinic Cu2SnS3.

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© 2021 多元系化合物・太陽電池研究会
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