日本エア・リキード株式会社
2000 年 58 巻 1 号 p. 62-64
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ジクロロシランは, 近年シリコン半導体関連の加工用ガス材料として使用されている。化学用途としてはなじみは薄いが, 分子内に塩素および水素を持つことから有機金属との反応あるいはヒドロシリル化反応などが知られている興味ある化合物であり, 今後, 用途の広がりが期待されるケイ素材料である。本稿では半導体材料用としてのジクロロシランの使われ方, および化学用原料としての一端を紹介する。
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