日本原子力学会 年会・大会予稿集
2005年春の年会
セッションID: C49
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放射線グラフト重合
重イオンビームによる"ナノ構造制御"高分子電解質膜の作製
*八巻 徹也小曾根 雄一廣木 章博浅野 雅春久保田 仁吉田 勝
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抄録
フッ素樹脂の一つであるポリフッ化ビニリデン(PVDF)のイオン穿孔膜を得て、そのナノスケールの細孔内にγ線グラフト重合、スルホン化を行った。これにより、円柱状の穿孔内部にまでスルホン酸基が導入され、膜面に垂直な方向にのみ伝導経路を有するナノ構造制御電解質膜を作製できることが明らかになった。
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© 2005 一般社団法人 日本原子力学会
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