高エネルギー量子場の材料損傷機構研究と高性能材料の開発 (9) 多層被覆法によるピッティング損傷抑制効果

直江 崇; 二川 正敏; 川合 將義; 山村 力; 五十嵐 廉

doi:10.11561/aesj.2010s.0.419.0

2010年春の年会

セッションID: K36

DOI https://doi.org/10.11561/aesj.2010s.0.419.0

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高エネルギー量子場

高エネルギー量子場の材料損傷機構研究と高性能材料の開発

(9) 多層被覆法によるピッティング損傷抑制効果

*直江崇, 二川正敏, 川合將義, 山村力, 五十嵐廉

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キーワード: 水銀ターゲット, ピッティング損傷, 応力波

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抄録

J-PARCパルス核破砕ターゲットの高出力化への最重要課題である水銀キャビテーションによるピッティング損傷の抑制に対して，損傷形成時に材料表面に負荷される応力波の伝ぱの観点から推察された多重層被覆法について，数値解析的にピッティング損傷抑制に効果的な被覆層厚さを検討した結果を紹介すると共に，SUS/金，銅，ニッケルに適用した材料に対して行ったピッティング損傷実験の結果を報告する．

責任著者(Corresponding author)

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