高速炉用水素化物中性子吸収材の開発

（8）BOR-60照射後試験

抄録

高速炉用制御材として期待されるハフニウム水素化物を被覆管に密封したキャプセルをロシアの高速実験炉BOR-60で照射し、照射後試験を実施した。その結果、目標とした照射条件（被覆管温度が500℃、600℃）が達成されたことが確認され、中性子照射量約14dpaにおいてもペッレト中に水素が保持され、キャプセルが健全であることが確かめられた。