日本原子力学会 年会・大会予稿集
2013年春の年会
セッションID: K21
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ナノインフィルトレーション遷移共晶法で作製されたモノリシックSiCのイオン照射後微細組織に及ぼす核変換水素の影響
*小沢 和巳小柳 孝彰田口 富嗣野澤 貴史谷川 博康近藤 創介檜木 達也
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会議録・要旨集 認証あり

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抄録
先進SiC/SiC複合材料は核融合実証(DEMO)炉の候補材料として期待されている。炉材料としての実現のためには、核変換反応生成物であるHeとHの与える影響を、微細組織のレベルから明らかにすることが望まれている。高純度なβ-SiCの方のHe効果は理解が進んでいるものの、新規製法であり、マトリックスにプロセス添加剤に由来する第二相を含むNITE(ナノインフィルトレーション遷移共晶)法SiC/SiC複合材料ではその知見が著しく限られている。そこで、本研究では、上記材料のモノリシック成分であるNITE-SiCに対し二重・三重イオン同時照射を実施し、1000°C、~30 dpaまでの、キャビティまたはループ等に代表される点欠陥クラスター微細組織発達過程に及ぼす核変換H原子の影響について検討した。
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© 2013 一般社団法人 日本原子力学会
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