Colloid & Interface Communications
Online ISSN : 2758-5379
Topics
ポリマーフィルムの洗浄および再付着防止機構
半澤 将希
著者情報
ジャーナル オープンアクセス

2024 年 49 巻 2 号 p. 32-35

詳細
抄録

洗浄技術は、日常生活から一般工業分野に至るまで多岐に渡って活用されている。洗浄では、固体基質に腐食や変形などのダメージを与えることなく、最適な組成や手法を選択しなければならない。また、近年では低環境負荷材料への置き換えも訴求されている。本稿では、電子材料向けのポリマーフィルム(フォトレジスト)の洗浄に焦点を当て、溶媒や界面活性剤が及ぼす影響について多角的な分析手法を通して論じる。

著者関連情報
© 2024 公益社団法人日本化学会コロイドおよび界面化学部会

この記事はクリエイティブ・コモンズ [表示 4.0 国際]ライセンスの下に提供されています。
https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/deed.ja
前の記事 次の記事
feedback
Top