実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)

抄録

CVDの反応装置内における成膜速度分布を見積もる新しい計算方法を提案した。円板型の基板を伴うバッチ型反応装置における支配方程式を定式化し、様々な計算条件下で、成膜種の濃度分布が少数の基底関数で構成されることを示した。