マスク転写法を用いた自己形成光ピン

抄録

近年、情報技術の発達による情報量の増大化により、光インターコネクション技術への関心が高まっている。そのなかで我々は光インターコネクション技術の１つとして、電気配線と光配線を組み合わせた光電気混載基板の提案を行い、その実現に必要な光デバイスである光ピンについて研究を行ってきた。今回は従来の石英光ファイバから作製される光ピンに代わり、フォトマスク転写法を用いた自己形成光導波路による光ピンについて、作製及びその光学特性の検討を行ったので報告する。