主催: 社団法人エレクトロニクス実装学会
東大工
富士通
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
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前回、前々回とAr-FAB照射によってCNTとAu薄膜の接続抵抗を低減させることに成功したが、Auプラズマスパッタ膜をCNT上に形成することによって、Au薄膜との接続抵抗の更なる低減下が実現した。
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