マイクロストリップラインを用いた液晶位相変調器におけるセル構造パラメータの影響

抄録

これまで高周波の良好な平板回路であるCPW基板を用いて、ミリ波位相変調器を実現する試みを行ってきたが、伝搬するミリ波の感じる実効的な液晶の誘電率変化が半分以下になる問題があった。そこで本研究では、マイクロストリップラインに注目した新しい素子構造を提案し、その基本的な特性についてFDTD法を用いた解析を行った。ここでは、セル厚、電極幅、誘電率などのセル構造パラメータのマイクロ波・ミリ波帯における伝搬特性に対する影響について詳しく調べた結果について報告する。