光渦レーザーを使用した光配向性高分子のパターン配向と表面凹凸形成

日本液晶学会討論会講演予稿集

Online ISSN : 2432-5988
Print ISSN : 1880-3490
ISSN-L : 1880-3490

2018年日本液晶学会討論会

セッションID: 3C04

DOI https://doi.org/10.11538/ekitou.2018.0_3C04

会議情報

主催: 一般社団法人日本液晶学会

会議名: 2018年日本液晶学会討論会

開催地: 岐阜大学

開催日: 2018/09/04 - 2018/09/06

光渦レーザーを使用した光配向性高分子のパターン配向と表面凹凸形成

*脇奈穂美, 近藤瑞穂, 川月喜弘, 小野浩司, 佐々木友之, 坂本盛嗣

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