SiO斜方蒸着膜厚と液晶分子配向

液晶討論会講演予稿集

Online ISSN : 2432-9959
Print ISSN : 1880-3539
ISSN-L : 1880-3539

第4回液晶討論会

セッションID: 2S15

DOI https://doi.org/10.11538/ekitouyokou.4.0_98

会議情報

主催: 日本化学会, 応用物理学会, 高分子学会

会議名: 第4回液晶討論会

回次: 4

開催地: 名古屋大学工学部

開催日: 1978/10/16 - 1978/10/17

SiO斜方蒸着膜厚と液晶分子配向

*廣嶋綱紀, 望月学

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© 1978 一般社団法人日本液晶学会

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