第112年学術大会（2005京都）
セッションID: P-213
会議情報
主催: 一般社団法人日本地質学会
会議名: 日本地質学会第112年学術大会（2005京都）
回次: 112
開催地: 京都大学
開催日: 2005/09/18 - 2005/09/20
一般講演
Si-Al系におけるウラン濃集機構について : HASイオン(Hydroxyl Aluminum Silicate ion)生成時におけるウランの挙動(26.環境地質)
詳細
記事の1ページ目
