解説
レーザー生成高輝度放射光源開発研究の現状とその展望
2006 年 126 巻 12 号 p. 1195-1198
詳細
2006 年 126 巻 12 号 p. 1195-1198
Properties of laser-produced plasmas (LPP) are described to generate intense radiation for various applications including extreme ultra-violet (EUV) light for next generation lithography. After an overview of LPP physics, state-of-the-art topics relevant to the 13.5 nm EUV source are described
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