高分子表面処理における紫外光と励起分子の効果

電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）

Online ISSN : 1347-5533
Print ISSN : 0385-4205
ISSN-L : 0385-4205

高分子表面処理における紫外光と励起分子の効果

浜村尚樹, 湯本雅恵, 堺孝夫

著者情報

キーワード: 表面処理, RF放電, 励起分子, 紫外光

ジャーナルフリー

1997 年 117 巻 6 号 p. 649-650

DOI https://doi.org/10.1541/ieejfms1990.117.6_649

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 電気学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

発行機関からのお知らせ

【電気学会会員の方】購読している論文誌を無料でご覧いただけます（会員ご本人のみの個人としての利用に限ります）。購読者番号欄にMyページへのログインIDを，パスワード欄に生年月日8ケタ（西暦，半角数字。例：19800303）を入力して下さい。

ダウンロード

論文(PDF)の閲覧方法はこちら
閲覧方法 (389.7K)

前身誌

電気学会論文誌. A

電氣學會雜誌

関連情報

J-STAGEがリニューアルされました！　　https://www.jstage.jst.go.jp/browse/-char/ja/

関連ジャーナル

電気学会誌

論文誌Ｂ（電力・エネルギー部門誌）

論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌）

論文誌Ｄ（産業応用部門誌）

IEEJ Journal of Industry Applications

論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌）

IEEJ Transactions on Electrical and Electronic Engineering

Top