電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）
Online ISSN : 1347-5533
Print ISSN : 0385-4205
ISSN-L : 0385-4205
光磁気膜を利用したダブルマスク型再生専用磁気超解像メモリ
尾留川 正博, 鈴木 孝雄, 宮武 範夫
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キーワード: 高密度記録, 再生専用, 磁気超解像, 保磁力, イオンエッチング
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1999 年 119 巻 4 号 p. 413-418

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