ホログラフィック光学素子 (HOE) として用いられる回折格子には，高い回折効率のみならず，極めて広い波長・角度選択特性が望まれる．ここでは，多層膜フーリエ格子に斜め入射した平面電磁波回折問題を準二次元問題として解析した．その結果，コーティング層の領域には消去理論に基づくR-マトリクス伝搬則の表現を用いて漸化的な行列計算を実現している．本手法で得られた結果は，格子のグローブの深さなどのパラメータには従来のT-マトリクス法の適用範囲の制約を受けるが，コーティング層の厚みや層数に関係することなく十分な精度の数値計算が可能である．
