日本画像学会誌
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原著論文
DCプラズマCVDによるa-Si感光ドラムの開発
中村 隆大久保 大五郎川上 哲哉笹原 正光
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2006 年 45 巻 5 号 p. 429-432

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抄録
a-Si感光ドラムの成膜方法として一般的に使用されている13.56MHzの高周波プラズマに替えて,DCプラズマを使用するCVD法を開発した.この新しい成膜方法により,従来の2倍以上の成膜速度が得られ,また,成膜中の粉体発生を極少にすることが出来,さらに感光ドラムの特性ムラを大幅に改善することができた.これらの改善により,生産コストを低く抑えることが可能になり,今後需要が見込まれる小径タンデムカラー機への搭載が容易になった.
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© 2006 一般社団法人 日本画像学会
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