表面分析―XPS : X線光電子分光―

抄録

XPSは表面分析の中の1手法である．固体表面に軟X線を照射したときに放出される光電子のエネルギーを測定することによって，表面から数nm程度の深さの領域の構成元素，およびその組成を分析する．一番の長所はケミカルシフトと呼ばれる光電子の結合エネルギーのシフトから，結合状態を解析することである．測定装置は，X線源，電子レンズ，エネルギーアナライザー，検出器から成り立ち，測定には超高真空が要求される．本稿では，XPSの原理，特長について解説するとともに，その活用例について紹介する．