19-2 65nmプロセスを用いた二層構造オンチップメタル偏光子搭載イメージセンサ(第19部門[テーマ講演]科学技術のフロンティアを切り拓くイメージセンサ技術)

抄録

We propose and demonstrate a CMOS image sensor pixel with double-layer on-chip metal grid polarizer. The extinction ratio depends on the combination of metal layers and can be improved by optimization.