反射形イメージ管におけるパターン発生の機構

抄録

この論文は, 赤外線撮像の目的で考えられた反射形イメージ管に関するもので, まず発生機構が次の二つの過程によることを明らかにする。 (1) 光導電膜の表面電位がそこに入射する光の強さから一義的に定まる. (2) この表面電位の分布が低速度電子流の電子密度を変え, その中に電子像をつくる.最後に, このようなパターン発生機構をもつイメージ管の変換利得が50～100倍程度に達することを計算から明らかにする.