超LSIのための微細加工技術
1979 年 33 巻 11 号 p. 893-900
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1979 年 33 巻 11 号 p. 893-900
微細加工技術の開発は, 超LSIの実現に不可欠である.微細加工技術は露光技術とエッチング技術に大別される.露光技術では, 従来技術の延長として1/10縮小投影および遠紫外光露光があり, サブミクロンパターン形成には光露光に代り電子ビームおよびX線露光が用いられる.エッチング技術では, 反応性スパッタエッチングが有望である.
