慣性力発生装置を用いたアクティブ消振・制振システムに関する研究

抄録

近年，半導体を製造する露光装置では，半導体パタンの微細化に伴い，床から装置に伝わる振動の許容レベルが小さくなってきている．この環境を実現するため，我々は慣性力発生装置によって振動の原因となる力を直接相殺するアクティブ消振システムの開発を行なってきた．さらに慣性力発生装置にアクティブマスダンパの機能を持たせることによって，制振の効果を同時に実現するアクティブ消振・制振システムの開発を行なった．